美国最惧怕的中国企业,能造出5nm蚀刻机,起诉它反遭受巨额损失
2020-03-25 16:18:18
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来源:崛起中国V

作者:滕飞

编辑:浅梦

如今互联网产业发展的如火如荼,其实完全取决于硅制造。所有互联网使用的芯片,都是来源于对硅的研制。

那么,在硅制造中,半导体工艺属于核心工艺,那么在半导体工艺当中,又需要许许多多的软硬件设备。

就拿其中的IC制造来说,它需要光刻机、蚀刻机等等核心技术装备,而光刻技术是其中高难度的一种,因为它对技术要求特别高,而且非常精细。截至目前,荷兰是世界上光刻技术NO.1的国家。而中国最领先的是蚀刻技术。

中国蚀刻技术领先全球

所谓蚀刻,也是用化学或物理手段,来剥离硅片表面的无用物质。在对硅原料的加工中,刻蚀技术的难度,要远远低于光刻技术,刻蚀技术的目的,在于完美地保护上边的图案。从蚀刻技术的方法,又可以将蚀刻分为干法刻蚀和湿法腐蚀。

干法刻蚀又称等离子刻蚀,从它的名字就可以看出它是不接触液体的,主要是通过提取那些置放在空气中的硅片所产生的等离子,然后再让这些等离子与硅片发生某种化学或物理反应,从而剥离暴露表面的物质。

通过此方法产生出来的芯片,都是十分精细的,差不多是一根头发的几千分之一,所以干法刻蚀的技术要求,是特别高的。

就拿16nm的工艺来说,其经过上千层的工艺,有60多个微观结构。干法刻蚀主要适用于集成电路制造,从其所使用的原材料,又可将其分为介质刻蚀、金属刻蚀和硅片刻蚀。

硅谷最成功的华人尹志尧

湿法腐蚀就是利用化学液体,来剥离硅表面的物质,其主要适用于尺寸较大的材料。而中国上海的尹志尧所研发出的湿法腐蚀,已经占据了世界第一的位置,被称为“硅谷最成功的华人之一”。

中国的湿法腐蚀技术如此纯熟,尹志尧功不可没。然而尹志尧成功的背后,江上舟的付出也是有目共睹的。江上舟对我国湿法腐蚀技术的贡献,是无可厚非的,但是他却在2011年因癌症去世。

中微发展前景一片大好

美国最惧怕的中国企业,能造出5nm蚀刻机,起诉它反遭受巨额损失。在尹志尧、江上舟等人的努力之下,中微终于成立了,但是中微却一直遭受美国的遏制。

可以说,中微是遭受美国起诉最多的一家公司,但这屡次的起诉中,中国都胜诉了。可见,中国的实力是不可估量的。

美国在经历了多次败诉之后,已经遭受了巨额损失。如今再也不敢贸然挑事,只能选择谈判的方式。

中微之所以成功,是因为中微的保密协议、专利申请、找到雷区、专利保护以及遵守法律这五点。而且,目前上微和北微也在续存实力当中,所以,中国超越西方,是指日可待的。

来源:搜狐网

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